1.半导体工厂废气简述
随着科技的飞速发展，半导体在各个领域的应用越来越广泛，如智能手机、电脑、汽车等。然而半导体工厂在生产过程中会产生大量的废气污染物，主要为酸性气体、碱性气体、有机废气等污染物。如果这些废气不经过有效的处理，直接排放到大气中，不仅对环境造成严重的污染，还会对人体健康造成伤害。因此，需要对半导体工厂废气进行净化处理后达标排放。
2.半导体工厂废气处理
半导体工厂在生产过程中会产生废气，主要为酸性气体、碱性气体、有机废气等废气污染物。酸性气体采用碱液喷淋洗涤法处理，碱性气体采用酸液喷淋洗涤法处理，而对于有机废气处理方法有很多种，常见主要有活性炭吸附、催化燃烧等，接下来，详细介绍半导体工厂废气处理。
2.1 酸性、碱性气体处理方法
酸性废气处理方法是采用“碱液喷淋塔”进行处理，以10%的氢氧化钠溶液为吸收液。碱性废气处理方法是采用“酸液喷淋塔”进行处理，以10%的硫酸溶液为吸收液。酸性、碱性废气洗涤净化法，应用相当普遍，具有运行稳定，处理效果好，投资少，处理费用低等优点。
2.2 有机废气处理
（1）活性炭吸附
活性炭吸附法主要原理就是利用多孔固体吸附剂（活性碳、硅胶、分子筛等）来处理有机废气，这样就能够通过化学键力或者是分子引力充分吸附有害成分，并且将其吸附在吸附剂的表面，从而达到净化有机废气的目的。吸附法目前主要应用于大风量、低浓度（≤800mg/m3）、无颗粒物、无粘性物、常温的低浓度有机废气净化处理。
活性炭净化率高（活性炭吸附可达到90%以上），实用遍及，操纵简单，投资低。在吸附饱和以后需要更换新的活性炭，更换活性炭需要费用，替换下来的饱和以后的活性炭也是需要找专业人员进行危废处理，运行费用高。
（2）催化燃烧
催化燃烧法作为另一种高效处理有机废气的技术，其核心在于利用催化剂降低有机物的燃烧温度，使废气在较低的温度下就能发生无焰燃烧，进而分解为无害的二氧化碳和水蒸气。这种方法尤其适用于处理高浓度、小风量的有机废气，具有净化效率高（可达95%以上）、能耗低、二次污染小等优点。
催化燃烧系统通常包括预热装置、催化反应器和热回收系统。废气首先经过预热装置，提升温度至催化剂的活性温度窗口内，随后进入催化反应器，在催化剂表面迅速发生氧化反应，释放出大量热能。这部分热能可通过热回收系统回收利用，用于预热进入系统的废气，从而实现能量的高效利用。
值得注意的是，催化燃烧技术对催化剂的选择至关重要。催化剂不仅需具备高活性、高选择性，还需具备良好的热稳定性和抗中毒能力，以应对半导体工厂废气中可能存在的复杂成分。此外，定期维护和更换催化剂也是保证系统长期稳定运行的关键。
综上所述，半导体工厂废气处理是一个综合性的环保工程，需根据废气成分、浓度及排放量等因素，灵活选择并优化处理工艺。通过采用碱液喷淋、酸液喷淋、活性炭吸附及催化燃烧等多种技术手段，可有效减少废气对环境的污染，保护人体健康，推动半导体行业的绿色可持续发展。
来源：环保
